Contribution à la modélisation et à la caractérisation des transistors bipolaires à hétérojonction Si/SiGe
Thèses de doctorat
Date de soutenance
2001-12-10Résumé
Le regain d¹intérêt récent pour les technologies bipolaires, induit par les transistors bipolaires à hétérojonction Silicium germanium (TBH SiGe) a mis en lumière les problèmes liés à la modélisation compacte (ou électrique) ...Lire la suite >
Le regain d¹intérêt récent pour les technologies bipolaires, induit par les transistors bipolaires à hétérojonction Silicium germanium (TBH SiGe) a mis en lumière les problèmes liés à la modélisation compacte (ou électrique) de ces composants. En effet, le gain en performance qu¹autorisent ces technologies avancées a accru les possibilités et le champ des applications, mais a dans le même temps rendu critiques les contraintes liées à leur modélisation précise. Ce mémoire développe les points clefs liés à la modélisation des TBH SiGe. En premier lieu, le gain en performance apporté par les TBH SiGe est exprimé et quantifié via une étude physique dont le point de départ est l¹ensemble des équations des semi-conducteurs. Les méthodes d¹obtention de mesures sous pointes des dispositifs microélectroniques en continu et en hautes fréquences sont alors présentées, ainsi que les moyens de corrections des erreurs. Nous comparons ensuite les modèles électriques de transistors bipolaires existants (Gummel-Poon, VBIC, MEXTRAM et HICUM). Ceci permet de considérer le modèle HICUM comme candidat idéal pour la modélisation des TBH SiGe. Après une étape qui consiste en la réalisation d¹une version modifiée en langage comportemental (HDL-A) du modèle HICUM, nous présentons un ensemble de méthodesoriginales destinées à l¹extraction des paramètres de celui-ci.< Réduire
Résumé en anglais
The recent improvements in bipolar technologies, carried out by SiGe heterojunction bipolar transistors (SiGe HBT), makes more critical the modeling inaccuracies of these devices. The new performances allowed with these ...Lire la suite >
The recent improvements in bipolar technologies, carried out by SiGe heterojunction bipolar transistors (SiGe HBT), makes more critical the modeling inaccuracies of these devices. The new performances allowed with these advanced technologies, increase the application field, but in the same time, make the modeling more complicated. This work presents the key point concerning the SiGe HBT¹s compact modeling. First, we explain and quantify the performance gain induced by the SiGe HBT¹s by using a physical study based on the semiconductor equations. Then, the ³On-wafer² measurement methods for integrated devices are presented in the DC as well as in the High Frequency domains. The error correction methodologies are also detailed. A comparison between the existing bipolar compact models (Gummel-Poon, VBIC, MEXTRAM and HICUM) permits to consider HICUM as the best model for SiGe HBT¹s. Moreover, a modified version of the HICUM model is realized using a behavioral modeling language (HDL-A). Finally, we present a set of new methods for the HICUM parameter extraction.< Réduire
Mots clés
Electronique
Conception assistée par ordinateur (CAO)
Transistor bipolaire
TBH SiGe
Modélisation compacte (électrique)
Extraction de paramètres
Mesures sous pointes
Mesures hautes fréquences
Unités de recherche