DUPIN, Jean-Charles; GONBEAU, Danielle; MARTIN-LITAS, Isabelle; VINATIER, Philippe; LEVASSEUR, Alain

doi:10.1016/S0169-4332(00)00893-X

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DUPIN, Jean-Charles
Institut des sciences analytiques et de physico-chimie pour l'environnement et les materiaux [IPREM]

GONBEAU, Danielle
Institut des sciences analytiques et de physico-chimie pour l'environnement et les materiaux [IPREM]

MARTIN-LITAS, Isabelle
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]

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Applied Surface Science. 2001, vol. 173, n° 1-2, p. 140-150

Elsevier

Résumé en anglais

The present paper reports the XPS study of different amorphous oxysulfides thin films MOySz (M = W, Ti, Mo), prepared by radio frequency magnetron sputtering. It has been shown the coexistence of various environments and formal oxidation numbers for metal atoms. In addition, the observation of several types of sulfur ions has revealed the specific character of such amorphous layers. In order to precise the common features and the differences as a function of the nature of the metal atom, a comparison of the data for the three kinds of thin films has been done.< Réduire

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Amorphous oxysulfide thin films MOySz (M = W, Mo, Ti) XPS characterization: Structural and electronic pecularities

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