Amorphous oxysulfide thin films MOySz (M = W, Mo, Ti) XPS characterization: Structural and electronic pecularities
DUPIN, Jean-Charles
Institut des sciences analytiques et de physico-chimie pour l'environnement et les materiaux [IPREM]
Institut des sciences analytiques et de physico-chimie pour l'environnement et les materiaux [IPREM]
GONBEAU, Danielle
Institut des sciences analytiques et de physico-chimie pour l'environnement et les materiaux [IPREM]
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DUPIN, Jean-Charles
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GONBEAU, Danielle
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Idioma
en
Article de revue
Este ítem está publicado en
Applied Surface Science. 2001, vol. 173, n° 1-2, p. 140-150
Elsevier
Resumen en inglés
The present paper reports the XPS study of different amorphous oxysulfides thin films MOySz (M = W, Ti, Mo), prepared by radio frequency magnetron sputtering. It has been shown the coexistence of various environments and ...Leer más >
The present paper reports the XPS study of different amorphous oxysulfides thin films MOySz (M = W, Ti, Mo), prepared by radio frequency magnetron sputtering. It has been shown the coexistence of various environments and formal oxidation numbers for metal atoms. In addition, the observation of several types of sulfur ions has revealed the specific character of such amorphous layers. In order to precise the common features and the differences as a function of the nature of the metal atom, a comparison of the data for the three kinds of thin films has been done.< Leer menos
Orígen
Importado de HalCentros de investigación