Influence of the cation nature of high sulfur content oxysulfide thin films MOySz (M=W, Ti) studied by XPS
Idioma
en
Article de revue
Este ítem está publicado en
Applied Surface Science. 2004, vol. 236, n° 1-4, p. 377-386
Elsevier
Palabras clave en inglés
Tungsten oxysulfide
Titanium oxysulfide
Thin films
XPS
Core peaks
Valence bands
Density of states
Orígen
Importado de HalCentros de investigación