Anisotropic and non-heterogeneous continuum percolation in titanium oxynitride thin columnar films
FABREGUETTE, F.
Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Laboratoire de Recherche sur la Réactivité des Solides [LRRS]
Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Laboratoire de Recherche sur la Réactivité des Solides [LRRS]
MAGLIONE, Mario
Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
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Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
FABREGUETTE, F.
Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Laboratoire de Recherche sur la Réactivité des Solides [LRRS]
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MAGLIONE, Mario
Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
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Laboratoire de Physique de l'Université de Bourgogne [LPUB]
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
Idioma
en
Article de revue
Este ítem está publicado en
Journal of Physics: Condensed Matter. 2002, vol. 14, n° 34, p. 7911-7917
IOP Publishing
Resumen en inglés
We report the percolation behaviour of the conductivity of titanium oxynitride films grown by low-pressure metal-organic chemical vapour deposition, composed of TiNxOy mixed with TiO2. The usual DC parameters (t, s and ...Leer más >
We report the percolation behaviour of the conductivity of titanium oxynitride films grown by low-pressure metal-organic chemical vapour deposition, composed of TiNxOy mixed with TiO2. The usual DC parameters (t, s and Φc), obtained from the effective media theory equations, are compared to the universal values (s = sun while t < tun because of the film anisotropy). This is the first example of an electrical continuum percolation applied to columnar films with chemically similar conducting and insulating units (non-heterogeneous percolation) whose mixing is based upon the growth temperature during the film growth.< Leer menos
Palabras clave en inglés
Chemical vapor deposition
Low pressure
Titanium
Oxynitride
Percolation
Conductivity
Thin films
Orígen
Importado de HalCentros de investigación