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Engineering block copolymer materials for patterning ultra-low dimensions

CUMMINS, Cian
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
Centre de Recherche Paul Pascal [CRPP]
PINO, Guillaume
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
MANTIONE, Daniele
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
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Langue
EN
Article de revue
Ce document a été publié dans
Molecular Systems Design & Engineering. 2020-10-28
Résumé en anglais
Recently engineered high χ-low N block copolymers for nanolithography are evaluated. Synthetic routes together with thin film processing strategies are highlighted that could enable the relentless scaling for logic ...Lire la suite >
URI
https://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/21284
DOI
Unités de recherche