Chemically Amplified Photoresists for 193-nm Photolithography: Effect of Molecular Structure and Photonic Parameters on Photopatterning
BANDELIER, Philippe
Lithography Laboratory
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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Lithography Laboratory
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
Langue
en
Article de revue
Ce document a été publié dans
Journal of polymer science: Part A, General papers. 2010, vol. 48, n° 6, p. 1271-1277
John Wiley & Sons
Origine
Importé de halUnités de recherche