Manufacturing and testing of a metal supported Ni-YSZ/YSZ/La2NiO4 IT-SOFC synthesized by physical surface deposition processes
FONDARD, Jérémie
Laboratoire Commun de Belfort : Hydrogène et Pile à Combustible pour les applications au transport [FC LAB]
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174) [FEMTO-ST]
Laboratoire Interdisciplinaire Carnot de Bourgogne [ICB]
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BILLARD, Alain
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FONDARD, Jérémie
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BILLARD, Alain
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BRIOIS, Pascal
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Langue
en
Article de revue
Ce document a été publié dans
Solid State Ionics. 2017-11-01, vol. 310, p. 10-23
Elsevier
Résumé en anglais
The manufacture of the last generation metal supported IT-SOFC complete cell by dry surface deposition processes is really challenging. Atmospheric Plasma Spraying (APS) and Reactive Magnetron Sputtering (RMS) processes ...Lire la suite >
The manufacture of the last generation metal supported IT-SOFC complete cell by dry surface deposition processes is really challenging. Atmospheric Plasma Spraying (APS) and Reactive Magnetron Sputtering (RMS) processes are respectively adapted to deposit Ni-YSZ anode and YSZ electrolyte layers. RMS is also used to coat a thin and dense La2NiO4 (LNO) cathode layer. In this work, we have realized a complete cell on metallic support (ITM) produced by PLANSEE SE. The innovative LNO cathode layer was compared with screen-printed LNO layers, with and without RMS bonding layer. Electrochemical and Voltammetry tests were performed on these samples. It reveals lower performances than literature due to the high density of the RMS cathode layer, and too high temperature during sintering step which deteriorate layers manufactured by RMS and metallic substrate. Nevertheless, using LNO bonding layer manufactured by RMS seems to be an interesting way to improve the polarization resistance of the cell.< Réduire
Mots clés en anglais
SOFC
Metal support cell
Thin films
Electrochemical measurement
Origine
Importé de halUnités de recherche