PECQUENARD, Brigitte; LE CRAS, Frédéric; POINOT, Delphine; SICARDY, Olivier; MANAUD, Jean-Pierre

doi:10.1021/am4055386

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PECQUENARD, Brigitte
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]

LE CRAS, Frédéric
Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux [LITEN]

POINOT, Delphine
Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux [LITEN]

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ACS Applied Materials & Interfaces. 2014-03-12, vol. 6, n° 5, p. 3413-3420

Washington, D.C. : American Chemical Society

Résumé en anglais

CuO thin films were prepared by radio frequency magnetron sputtering using a copper target in a (Ar + O2) reactive mixture. Different sputtering parameters were varied including oxygen flow rate, total pressure, target-substrate distance, substrate temperature and target orientation. As expected, the thin film chemical composition is strongly dependent on the oxygen flow rate. CuO thin films having a good electronic conductivity (9.3 × 10(-1) S*cm(-1)) were obtained with an oxygen concentration of 12%. The texture and the columnar growth are amplified when the target is tilted. Preliminary electrochemical results highlight that CuO thin film performances in lithium systems are tightly related to their morphology and structure.< Réduire

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Thorough Characterization of Sputtered CuO Thin Films Used as Conversion Material Electrodes for Lithium Batteries.

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