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dc.rights.licenseopen
dc.contributor.authorRIDAOUI, Hassan
dc.contributor.authorDIRANI, Ali
dc.contributor.authorSOPPERA, Olivier
dc.contributor.authorISMAILOVA, Esma
dc.contributor.authorBROCHON, Cyril
dc.contributor.authorSCHLATTER, Guy
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des polymères organiques [LCPO]
dc.contributor.authorHADZIIOANNOU, Georges
hal.structure.identifierLithography Laboratory
dc.contributor.authorTIRON, Ralouca
hal.structure.identifierLithography Laboratory
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorBANDELIER, Philippe
hal.structure.identifierLithography Laboratory
dc.contributor.authorSOURD, Claire
dc.date.accessioned2020
dc.date.available2020
dc.date.created2010
dc.date.issued2010
dc.identifier.issn0449-2951
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/20592
dc.language.isoen
dc.publisherJohn Wiley & Sons
dc.title.enChemically Amplified Photoresists for 193-nm Photolithography: Effect of Molecular Structure and Photonic Parameters on Photopatterning
dc.typeArticle de revue
dc.subject.halChimie/Matériaux
dc.subject.halChimie/Polymères
bordeaux.journalJournal of polymer science: Part A, General papers
bordeaux.page1271-1277
bordeaux.volume48
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO) - UMR 5629*
bordeaux.issue6
bordeaux.institutionBordeaux INP
bordeaux.institutionUniversité de Bordeaux
bordeaux.peerReviewedoui
hal.identifierhal-00485616
hal.version1
hal.origin.linkhttps://hal.archives-ouvertes.fr//hal-00485616v1
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.jtitle=Journal%20of%20polymer%20science:%20Part%20A,%20General%20papers&rft.date=2010&rft.volume=48&rft.issue=6&rft.spage=1271-1277&rft.epage=1271-1277&rft.eissn=0449-2951&rft.issn=0449-2951&rft.au=RIDAOUI,%20Hassan&DIRANI,%20Ali&SOPPERA,%20Olivier&ISMAILOVA,%20Esma&BROCHON,%20Cyril&rft.genre=article


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