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dc.rights.licenseopenen_US
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorMANEUX, Cristell
IDREF: 135213584
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorMUKHERJEE, Chhandak
IDREF: 228231779
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorDENG, Marina
IDREF: 184622409
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorNECKEL WESLING, Bruno
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorREVEIL, Lucas
dc.contributor.authorSTANOJEVIC, Zlatan
dc.contributor.authorBAUMGARTNER, Oskar
dc.contributor.authorO'CONNOR, Ian
dc.contributor.authorPOITTEVIN, Arnaud
dc.contributor.authorLARRIEU, Guilhem
dc.date.accessioned2023-02-03T15:27:52Z
dc.date.available2023-02-03T15:27:52Z
dc.date.issued2022-10-10
dc.date.conference2022-07-04
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/171865
dc.description.abstractEnTo continue transistor downscaling beyond lateral 7nm devices, gate-all-around (GAA) junction-less vertical nanowire field effect transistors (VNWFET) represent a promising option. This invited paper presents the circuit design flow based on a vertical junctionless transistor technology. On the basis of state-of-the-art junctionless nanowire transistors (JLNT), DC characterization, compact modelling, EM simulation and parameter extraction are described in details. Using this circuit design flow, a set of innovative 3D circuit architectures are explored.
dc.description.sponsorshipPortes logiques élémentaires empillées - ANR-18-CE24-0005en_US
dc.language.isoENen_US
dc.publisherIEEEen_US
dc.subject.enSolid modeling
dc.subject.enThree-dimensional displays
dc.subject.enLogic circuits
dc.subject.enField effect transistors
dc.subject.enLogic gates
dc.subject.enNanoscale devices
dc.subject.enCircuit synthesis
dc.subject.enCompact modelling
dc.subject.enDC characterization
dc.subject.enParasitics extraction
dc.subject.enEM simulation
dc.subject.enVNWFET
dc.subject.en3D logic circuit simulation
dc.title.enCircuit Design Flow dedicated to 3D vertical nanowire FET
dc.typeCommunication dans un congrès avec actesen_US
dc.identifier.doi10.1109/LAEDC54796.2022.9908233en_US
dc.subject.halSciences de l'ingénieur [physics]en_US
dc.subject.halSciences de l'ingénieur [physics]/Electroniqueen_US
bordeaux.hal.laboratoriesIMS : Laboratoire d’Intégration du Matériau au Système - UMR 5218en_US
bordeaux.institutionUniversité de Bordeauxen_US
bordeaux.institutionBordeaux INPen_US
bordeaux.institutionCNRSen_US
bordeaux.conference.titleIEEE Latin American Electron Devices Conference (LAEDC 2022)en_US
bordeaux.countrymxen_US
bordeaux.title.proceedingIEEE Latin American Electron Devices Conference (LAEDC 2022)en_US
bordeaux.conference.cityCancunen_US
bordeaux.peerReviewedouien_US
bordeaux.import.sourcehal
hal.identifierhal-03765071
hal.version1
hal.exportfalse
workflow.import.sourcehal
dc.rights.ccPas de Licence CCen_US
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.date=2022-10-10&rft.au=MANEUX,%20Cristell&MUKHERJEE,%20Chhandak&DENG,%20Marina&NECKEL%20WESLING,%20Bruno&REVEIL,%20Lucas&rft.genre=proceeding


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