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dc.rights.licenseopenen_US
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorMISCHLER, Leo
hal.structure.identifierSTMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
dc.contributor.authorCARTAILLER, Vivien
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorDUCHAMP, Genevieve
IDREF: 033689849
hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorFREMONT, Helene
IDREF: 127007571
hal.structure.identifierSTMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
dc.contributor.authorIMBERT, Gregory
hal.structure.identifierSTMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
dc.contributor.authorMOULARD, J.
hal.structure.identifierSTMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
dc.contributor.authorKERMARREC, Olivier
dc.date.accessioned2022-07-11T09:04:05Z
dc.date.available2022-07-11T09:04:05Z
dc.date.issued2022
dc.date.conference2022-04-25
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/140420
dc.description.abstractEnThis work presents a study of moisture diffusion inside integrated circuits. The targeted materials are low-k and SiCN dielectrics. Moisture diffusion in these two materials is studied through mass variations. In an integrated configuration, moisture penetration is monitored by capacitance variations. A 2D numerical simulation approach is presented to model the capacitance results using the bulk material properties as inputs.
dc.language.isoENen_US
dc.publisherIEEEen_US
dc.subject.enMicromechanical devices
dc.subject.enMoisture
dc.subject.enCapacitance
dc.subject.enNumerical simulation
dc.subject.enNumerical models
dc.subject.enDielectrics
dc.subject.enMicroelectronics
dc.title.en2D Model for moisture diffusion in integrated Low-k dielectrics
dc.typeCommunication dans un congrès avec actesen_US
dc.identifier.doi10.1109/EuroSimE54907.2022.9758882en_US
dc.subject.halSciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectroniqueen_US
bordeaux.page1-6en_US
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire d’Intégration du Matériau au Système (IMS) - UMR 5218en_US
bordeaux.institutionUniversité de Bordeauxen_US
bordeaux.institutionBordeaux INPen_US
bordeaux.institutionCNRSen_US
bordeaux.conference.titleInternational Conference on Thermal, Mechanical and Multi-Physics Simulation and Experiments in Microelectronics and Microsystems (EuroSimE)en_US
bordeaux.countrymten_US
bordeaux.title.proceeding2022 23rd International Conference on Thermal, Mechanical and Multi-Physics Simulation and Experiments in Microelectronics and Microsystems (EuroSimE)en_US
bordeaux.conference.citySt Julianen_US
bordeaux.peerReviewedouien_US
bordeaux.import.sourcehal
hal.identifierhal-03666398
hal.version1
hal.exportfalse
workflow.import.sourcehal
dc.rights.ccPas de Licence CCen_US
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.date=2022&rft.spage=1-6&rft.epage=1-6&rft.au=MISCHLER,%20Leo&CARTAILLER,%20Vivien&DUCHAMP,%20Genevieve&FREMONT,%20Helene&IMBERT,%20Gregory&rft.genre=proceeding


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