Stratégies d’auto-assemblage dirigé pour le contrôle de l'orientation de domaines de copolymères à blocs en lithographie avancée.

Abstract

L’objectif de ce travail était de mettre en évidence le potentiel du PDMSBb-PS pour des applications en nanolithographie avancée. Pour cela, nous avons fourni une compréhension du comportement d’auto-assemblage du PDMSB-b-PS en masse et en film mince. Nous avons réalisé l’auto-assemblage de ce copolymère semicristallin en cylindre et gyroïde bien définis avec des périodicités inférieures à 20 nm grâce à un paramètre d’interaction de Flory-Huggins élevé (Chapitre 2). Nous avons par la suite proposé une approche pour obtenir des lamelles perpendiculaires du PDMSB-b-PS en film mince grâce à l’utilisation de sur-couches neutres réticulables. La polyvalence de cette approche a été démontrée à l’aide de CPBs de masses moléculaires différentes et s’est ensuite étendue à la formation d’empilements via un processus d’auto-assemblage itératif (chapitre 3). Enfin, nous avons réticulé la surcouche neutre à l’aide d’agents photo-sensibles ce qui nous a permis d’obtenir un motif par photolithographie au-dessus du film CPB. Ainsi, il a été possible de contrôler l’orientation du CPB à des endroits spécifiques du film (Chapitre 4).