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dc.contributor.advisorMalbert, Nathalie
dc.contributor.advisorFrégonèse, Sébastien
dc.contributor.authorSAHOO, Amit Kumar
dc.contributor.otherKauffmann, Nicolas
dc.date2012-07-13
dc.date.accessioned2020-12-14T21:14:03Z
dc.date.available2020-12-14T21:14:03Z
dc.identifier.urihttp://ori-oai.u-bordeaux1.fr/pdf/2012/SAHOO_AMIT_KUMAR_2012.pdf
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/22212
dc.identifier.nnt2012BOR14557
dc.description.abstractCe travail de thèse présente une évaluation approfondie des différentes techniques de mesure transitoire et dynamique pour l’évaluation du comportement électro-thermique des transistors bipolaires à hétérojonctions HBT SiGe:C de la technologie BiCMOS et des transistors Métal-Oxyde-Semiconducteur à effet de champ (MOSFET) de la technologie CMOS 45nm. En particulier, je propose une nouvelle approche pour caractériser avec précision le régime transitoire d'auto-échauffement, basée sur des mesures impulsionelles. La méthodologie a été vérifiée par des mesures statiques à différentes températures ambiantes, des mesures de paramètres S à basses fréquences et des simulations thermiques transitoires. Des simulations thermiques par éléments finis (TCAD) en trois dimensions ont été réalisées sur les transistors HBTs de la technologie submicroniques SiGe: C BiCMOS. Cette technologie est caractérisée par une fréquence de transition fT de 230 GHz et une fréquence maximum d’oscillation fMAX de 290 GHz. Par ailleurs, cette étude a été réalisée sur les différentes géométries de transistor. Une évaluation complète des mécanismes d'auto-échauffement dans les domaines temporels et fréquentiels a été réalisée. Une expression généralisée de l'impédance thermique dans le domaine fréquentiel a été formulée et a été utilisé pour extraire cette impédance en deçà de la fréquence de coupure thermique. Les paramètres thermiques ont été extraits par des simulations compactes grâce au modèle compact de transistors auquel un modèle électro-thermique a été ajouté via le nœud de température. Les travaux théoriques développés à ce jour pour la modélisation d'impédance thermique ont été vérifiés avec nos résultats expérimentaux. Il a été montré que, le réseau thermique classique utilisant un pôle unique n'est pas suffisant pour modéliser avec précision le comportement thermique transitoire et donc qu’un réseau plus complexe doit être utilisé. Ainsi, nous validons expérimentalement pour la première fois, le modèle distribué électrothermique de l'impédance thermique utilisant un réseau nodal récursif. Le réseau récursif a été vérifié par des simulations TCAD, ainsi que par des mesures et celles ci se sont révélées en excellent accord. Par conséquent, un modèle électro-thermique multi-géométries basé sur le réseau récursif a été développé. Le modèle a été vérifié par des simulations numériques ainsi que par des mesures de paramètre S à basse fréquence et finalement la conformité est excellente quelque soit la géométrie des dispositifs.
dc.description.abstractEnAn extensive evaluation of different techniques for transient and dynamic electro-thermal behavior of microwave SiGe:C BiCMOS hetero-junction bipolar transistors (HBT) and nano-scale metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) have been presented. In particular, new and simple approach to accurately characterize the transient self-heating effect, based on pulse measurements, is demonstrated. The methodology is verified by static measurements at different ambient temperatures, s-parameter measurements at low frequency region and transient thermal simulations. Three dimensional thermal TCAD simulations are performed on different geometries of the submicron SiGe:C BiCMOS HBTs with fT and fmax of 230 GHz and 290 GHz, respectively. A comprehensive evaluation of device self-heating in time and frequency domain has been investigated. A generalized expression for the frequency-domain thermal impedance has been formulated and that is used to extract device thermal impedance below thermal cut-off frequency. The thermal parameters are extracted through transistor compact model simulations connecting electro-thermal network at temperature node. Theoretical works for thermal impedance modeling using different networks, developed until date, have been verified with our experimental results. We report for the first time the experimental verification of the distributed electrothermal model for thermal impedance using a nodal and recursive network. It has been shown that, the conventional single pole thermal network is not sufficient to accurately model the transient thermal spreading behavior and therefore a recursive network needs to be used. Recursive network is verified with device simulations as well as measurements and found to be in excellent agreement. Therefore, finally a scalable electro-thermal model using this recursive network is developed. The scalability has been verified through numerical simulations as well as by low frequency measurements and excellent conformity has been found in for various device geometries.
dc.language.isoen
dc.subjectHétéro-transistors bipolaires (HBT)
dc.subjectMOSFETs
dc.subjectEffets électrothermiques
dc.subjectRésistance thermique
dc.subjectCapacité thermique
dc.subjectImpédance thermique
dc.subjectCaractérisations de semi-conducteurs
dc.subjectDes mesures impulsionnelles
dc.subjectLa modélisation de dispositifs semi-conducteurs
dc.subjectDe simulation thermique TCAD
dc.subjectModèle électrothermique multi-gémoétries
dc.subject.enHetero-junction bipolar transistors (HBTs)
dc.subject.enMosfet
dc.subject.enElectrothermal effects
dc.subject.enThermal resistance
dc.subject.enThermal capacitance
dc.subject.enThermal impedance
dc.subject.enSemiconductor device characterizations
dc.subject.enPulse measurements
dc.subject.enSemiconductor device modeling
dc.subject.enThermal TCAD simulation
dc.subject.enScalable electrothermal model
dc.titleContribution à la caractérisation électro-thermique, à la modélisation compacte et à la simulation TCAD de dispositifs avancés de type TBH SiGe : C et de dispositifs nanométrique CMOS FET
dc.title.enElectro-thermal Characterizations, Compact Modeling and TCAD based Device Simulations of advanced SiGe : C BiCMOS HBTs and of nanometric CMOS FET
dc.typeThèses de doctorat
dc.contributor.jurypresidentZimmer, Thomas
bordeaux.hal.laboratoriesThèses de l'Université de Bordeaux avant 2014*
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire de l'intégration du matériau au système (Talence, Gironde)
bordeaux.institutionUniversité de Bordeaux
bordeaux.type.institutionBordeaux 1
bordeaux.thesis.disciplineElectronique
bordeaux.ecole.doctoraleÉcole doctorale des sciences physiques et de l’ingénieur (Talence, Gironde)
star.origin.linkhttps://www.theses.fr/2012BOR14557
dc.contributor.rapporteurGaquière, Christophe
dc.contributor.rapporteurQuéré, Raymond
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.title=Contribution%20%C3%A0%20la%20caract%C3%A9risation%20%C3%A9lectro-thermique,%20%C3%A0%20la%20mod%C3%A9lisation%20compacte%20et%20%C3%A0%20la%20simulation%20TCAD%20de%20dis&rft.atitle=Contribution%20%C3%A0%20la%20caract%C3%A9risation%20%C3%A9lectro-thermique,%20%C3%A0%20la%20mod%C3%A9lisation%20compacte%20et%20%C3%A0%20la%20simulation%20TCAD%20de%20di&rft.au=SAHOO,%20Amit%20Kumar&rft.genre=unknown


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