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Pattern density multiplication by direct self assembly of block copolymers: Towards 300mm CMOS requirements

dc.rights.licenseopen
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorTIRON, Raluca
hal.structure.identifierHôpital Henri Mondor
dc.contributor.authorCHEVALIER, Xavier
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorGAUGIRAN, Stéphanie
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorPRADELLES, J.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorFONTAINE, H.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorCOUDERC, C.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorPAIN, L.
hal.structure.identifierGroupement de recherches de Lacq [GRL]
dc.contributor.authorNAVARRO, Christophe
hal.structure.identifierLaboratoire des technologies de la microélectronique [LTM]
dc.contributor.authorCHEVOLLEAU, T.
hal.structure.identifierLaboratoire des technologies de la microélectronique [LTM]
dc.contributor.authorCUNGE, Gilles
hal.structure.identifierLaboratoire des technologies de la microélectronique [LTM]
dc.contributor.authorDELALANDE, M.
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
hal.structure.identifierTeam 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
dc.contributor.authorFLEURY, Guillaume
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
hal.structure.identifierTeam 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
dc.contributor.authorHADZIIOANNOU, Georges
dc.date.accessioned2020
dc.date.available2020
dc.date.issued2012
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/20437
dc.description.abstractEnIn this paper we investigate the possibility to reach 300mm CMOS requirements by integrating graphoepitaxy of PS-b-PMMA self-assembly. Different schemes to integrate DSA process by using 193nm dry lithography or e-Beam lithography will be presented. Moreover, several challenges like solvent compatibility, bake kinetics and defectivity will be addressed. Concerning defectivity, we will propose a methodology in order to evaluate and optimize the long range order induced by graphoepitaxy of the block copolymer DSA. This approach affords the monitoring of the overall block copolymer self-assembly process and enables us to easily optimize the parameters required for a long-range order structuration, leading to a near zero-defects block copolymers self-assembled arrays. Transfer capabilities of the PS masks in the bulk silicon substrate by using plasma-etching will be also detailed, both with the film on bare silicon or organized with graphoepitaxy approaches. These results show the high potential of DSA to be integrated directly into the conventional CMOS lithography process in order to achieve high resolution and pattern density multiplication, at a low cost.
dc.language.isoen
dc.subject.enPS-b-PMMA
dc.subject.enplasma etching
dc.subject.enblock copolymer
dc.subject.engraphoepitaxy
dc.subject.endirected self-assembly
dc.title.enPattern density multiplication by direct self assembly of block copolymers: Towards 300mm CMOS requirements
dc.typeArticle de revue
dc.identifier.doi10.1117/12.916400
dc.subject.halChimie/Polymères
bordeaux.journalSPIE Proceedings Series
bordeaux.page83230O
bordeaux.volume8323
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO) - UMR 5629*
bordeaux.institutionBordeaux INP
bordeaux.institutionUniversité de Bordeaux
bordeaux.peerReviewedoui
hal.identifierhal-00817408
hal.version1
hal.origin.linkhttps://hal.archives-ouvertes.fr//hal-00817408v1
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.jtitle=SPIE%20Proceedings%20Series&rft.date=2012&rft.volume=8323&rft.spage=83230O&rft.epage=83230O&rft.au=TIRON,%20Raluca&CHEVALIER,%20Xavier&GAUGIRAN,%20St%C3%A9phanie&PRADELLES,%20J.&FONTAINE,%20H.&rft.genre=article


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