Scaling-down lithographic dimensions with block-copolymer materials: 10-nm-sized features with poly(styrene)-block-poly(methylmethacrylate)
CHEVALIER, Xavier
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
NICOLET, Célia
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
TIRON, Raluca
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
CHEVALIER, Xavier
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
NICOLET, Célia
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Groupement de recherches de Lacq [GRL]
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
TIRON, Raluca
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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GHARBI, Ahmed
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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ARGOUD, Maxime
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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PRADELLES, Jonathan
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
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FLEURY, Guillaume
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
HADZIIOANNOU, Georges
Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
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Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies
Idioma
en
Article de revue
Este ítem está publicado en
Journal of Micro-Nanolitography MEMS and MOEMS. 2013, vol. 12, n° 3, p. Nb 031102
Resumen en inglés
Poly(styrene)-block-poly(methylmethacrylate) (PS-b-PMMA) block-copolymers (BCP) systems synthesized on an industrial scale and satisfying microelectronic's requirements for metallic contents specifications are studied in ...Leer más >
Poly(styrene)-block-poly(methylmethacrylate) (PS-b-PMMA) block-copolymers (BCP) systems synthesized on an industrial scale and satisfying microelectronic's requirements for metallic contents specifications are studied in terms of integration capabilities for lithographic applications. We demonstrate in particular that this kind of polymer can efficiently achieve periodic features close to 10 nm. These thin films can be transferred in various substrates through dry-etching techniques. The self-assembly optimization for each polymer is first performed on free-surface, leading to interesting properties, and the changes in self-assembly rules for low molecular-weight polymers are investigated and highlighted through different graphoepitaxy approaches. The improvements in self-assembly capabilities toward low periodic polymers, as well as the broad range of achievable feature sizes, make the PS-b-PMMA system very attractive for lithographic CMOS applications. We conclude by showing that high-chi polymer materials developed in Arkema's laboratories can be efficiently used to reduce the pattern's size beyond the ones of PS-b-PMMA based BCP's capabilities. (C) 2013 Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE)< Leer menos
Palabras clave en inglés
graphoepitaxy
lithography
block-copolymer
self-assembly
PS-b-PMMA
Orígen
Importado de HalCentros de investigación