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Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning

dc.rights.licenseopen
hal.structure.identifierARKEMA FRANCE
dc.contributor.authorNAVARRO, C.
dc.contributor.authorNICOLET, C.
dc.contributor.authorARIURA, F.
dc.contributor.authorCHEVALIER, X.
dc.contributor.authorXU, K.
dc.contributor.authorHOCKEY, M. A.
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
dc.contributor.authorMUMTAZ, M.
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des polymères organiques [LCPO]
dc.contributor.authorFLEURY, Guillaume
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des polymères organiques [LCPO]
dc.contributor.authorHADZIIOANNOU, Georges
hal.structure.identifierLaboratoire des technologies de la microélectronique [LTM ]
dc.contributor.authorLEGRAIN, A.
hal.structure.identifierLaboratoire des technologies de la microélectronique [LTM ]
dc.contributor.authorZELSMANN, M.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorGHARBI, A.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorTIRON, R.
hal.structure.identifierCommissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information [CEA-LETI]
dc.contributor.authorPAIN, L.
hal.structure.identifierInstituto de Microelectrònica de Barcelona [IMB-CNM]
dc.contributor.authorEVANGELIO, L.
hal.structure.identifierInstituto de Microelectrònica de Barcelona [IMB-CNM]
dc.contributor.authorFERNÁNDEZ-REGÚLEZ, M.
hal.structure.identifierInstituto de Microelectrònica de Barcelona [IMB-CNM]
dc.contributor.authorPÉREZ-MURANO, F.
hal.structure.identifierSOITEC
dc.contributor.authorCAYREFOURCQ, I.
dc.date.accessioned2020
dc.date.available2020
dc.date.conference2017
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/20034
dc.language.isoen
dc.title.enRecent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning
dc.typeCommunication dans un congrès avec actes
dc.subject.halPhysique [physics]
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO) - UMR 5629*
bordeaux.institutionBordeaux INP
bordeaux.institutionUniversité de Bordeaux
bordeaux.countryJP
bordeaux.title.proceeding34th International Conference of Photopolymer Science and Technology
bordeaux.conference.citychiba
bordeaux.peerReviewedoui
hal.identifierhal-01825533
hal.version1
hal.origin.linkhttps://hal.archives-ouvertes.fr//hal-01825533v1
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.au=NAVARRO,%20C.&NICOLET,%20C.&ARIURA,%20F.&CHEVALIER,%20X.&XU,%20K.&rft.genre=proceeding


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