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Pentacene Crystal Growth on Silica and Layer-Dependent Step-Edge Barrier from Atomistic Simulations

dc.rights.licenseopen
hal.structure.identifierDipartimento di Chimica Industriale ‘‘Toso Montanari’’
dc.contributor.authorROSCIONI, Otello Maria
hal.structure.identifierThéorie de la Matière Condensée [NEEL - TMC]
dc.contributor.authorD’AVINO, Gabriele
hal.structure.identifierLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques [LCPO]
dc.contributor.authorMUCCIOLI, Luca
hal.structure.identifierDepartment of Industrial Chemistry
dc.contributor.authorZANNONI, Claudio
dc.date.accessioned2020
dc.date.available2020
dc.date.issued2018
dc.identifier.urihttps://oskar-bordeaux.fr/handle/20.500.12278/19910
dc.language.isoen
dc.publisherAmerican Chemical Society
dc.title.enPentacene Crystal Growth on Silica and Layer-Dependent Step-Edge Barrier from Atomistic Simulations
dc.typeArticle de revue
dc.identifier.doi10.1021/acs.jpclett.8b03063
dc.subject.halPhysique [physics]
bordeaux.journalJournal of Physical Chemistry Letters
bordeaux.page6900-6906
bordeaux.volume9
bordeaux.hal.laboratoriesLaboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO) - UMR 5629*
bordeaux.issue23
bordeaux.institutionBordeaux INP
bordeaux.institutionUniversité de Bordeaux
bordeaux.peerReviewedoui
hal.identifierhal-02022626
hal.version1
hal.origin.linkhttps://hal.archives-ouvertes.fr//hal-02022626v1
bordeaux.COinSctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.jtitle=Journal%20of%20Physical%20Chemistry%20Letters&rft.date=2018&rft.volume=9&rft.issue=23&rft.spage=6900-6906&rft.epage=6900-6906&rft.au=ROSCIONI,%20Otello%20Maria&D%E2%80%99AVINO,%20Gabriele&MUCCIOLI,%20Luca&ZANNONI,%20Claudio&rft.genre=article


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