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Role de couches sacrificielles et/ou protectrices pour le frittage de couches épaisses piezoélectriques. Application MEMS

hal.structure.identifierLaboratoire de l'intégration, du matériau au système [IMS]
dc.contributor.authorDEBÉDA, Hélène
hal.structure.identifierInstitut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
dc.contributor.authorRUA TABORDA, Maria Isabel
dc.contributor.authorSANTAWITEE, Onuma
dc.contributor.authorGRALL, Simon
hal.structure.identifierInstitut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
dc.contributor.authorMAGLIONE, Mario
hal.structure.identifierInstitut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
dc.contributor.authorU-CHAN, Chung
hal.structure.identifierInstitut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux [ICMCB]
dc.contributor.authorELISSALDE, Catherine
dc.date.issued2021
dc.date.conference2021-03-23
dc.language.isofr
dc.titleRole de couches sacrificielles et/ou protectrices pour le frittage de couches épaisses piezoélectriques. Application MEMS
dc.typeCommunication dans un congrès
dc.subject.halChimie/Matériaux
dc.subject.halSciences de l'ingénieur [physics]/Matériaux
bordeaux.countryFR
bordeaux.conference.cityCaen
bordeaux.peerReviewedoui
hal.identifierhal-03151563
hal.version1
hal.invitednon
hal.proceedingsnon
hal.popularnon
hal.audienceInternationale
hal.origin.linkhttps://hal.archives-ouvertes.fr//hal-03151563v1
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